拓樸難題有解 光學記憶體打造電子高速路洪嘉宏 (2024-08-13 14:50:22)





芝加哥大學普利茲克分子工程學院(PME)的研究人員在開發新型光學記憶體方面取得了意想不到的進展。


編譯/高晟鈞




芝加哥大學普利茲克分子工程學院(PME)的研究人員在開發新型光學記憶體方面取得了意想不到的進展。這種由錳、鉍和鍗組成的複雜材料(MnBi2Te4)可以製成快速、有效率地儲存和存取運算資料的光學記憶體,有望解決拓樸絕緣體所遇到的物理難題。






芝加哥大學普利茲克分子工程學院的研究人員在開發新型光學記憶體方面取得了意想不到的進展。(圖/123RF)



解決拓樸難題




MnBi2Te4因其作為磁性拓樸絕緣體的巨大潛力而備受關注,其內部會表現出絕緣體的特性,但其外表面卻能夠導電。理想情況下,磁性拓樸絕緣體會出現一種量子現象,材料表面有如一條「電子高速公路」,電子有如一台台小客車,可以在上面以二維形式流動,而每台汽車都有攜帶或編碼量子資料的潛力。




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儘管理論上,科學家們認為MnBi2Te4足以乘載這樣的電子高速公路,但實驗上卻處處碰壁,難以真正實現預測的物理拓樸特性。




對立的競爭狀態




研究團隊使用先進的光譜方法,幫助其在超快的時間尺度下,觀察MnBi2Te4材料中的電子行為。




他們發現,MnBi2Te4中的電子存在兩種截然不同的狀態並相互競爭:第一種用於編碼量子資訊的拓樸狀態,以及第二種用於光儲存的光敏狀態。




第二種電子狀態在磁性和外部光子有著強烈的耦合,會與第一種狀態相互競爭電子。儘管第二種狀態無法用於量子資料的編碼,卻能在高效光學記憶體中大放異彩。




研究團隊目前正計畫用雷射操縱材料特性,並在兩種對立卻都有著特殊特性的狀態中尋找平衡,試圖製造更先進的光學記憶體,並在量子資料儲存中發揮作用。他們認為,用MnBi2Te4中製造的光學記憶體效率,將比目前典型的電子儲存設備高上好幾個量級。




資料來源:Phys.org




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