國產光刻膠通過量產驗證：極限分辨率達120nm
中國光谷宣布，光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現巨大突破。據介紹，武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創內地半導體光刻製造新局面。
據悉，T150 A對標國際龍頭企業主流KrF光刻膠系列，在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜後烘留膜率優秀，其對後道刻蝕工藝表現更為友好。通過驗證發現，T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。(ta/w)~
阿思達克財經新聞
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