《大行》大摩：Blackwell晶片產出大致上已上軌道 第四季應開始對英偉達(NVDA.US)收入有所貢獻
大摩發表報告指，Blackwell晶片產出大致上已上軌道，第四季應開始對英偉達(NVDA.US)收入有所貢獻。
對於有報道指英偉達下一代Blackwell晶片延遲推出，大摩認為Blackwell晶片可能只有兩週的停產時間，考量到輕微的「設計重整」，但在台積電(TSM.US)的努力下，產出應可在第四季追上。CoWoS-L良率約為95%，不會造成Blackwell延遲。此外，原設計的任何技術問題仍可透過軟體系統解決。
大摩相信，如果Blackwell平台量產延遲，對今年伺服器組件和ODM影響是可控，因為預期今年Blackwell對集團的營收貢獻少於5%。
(ha/cy)~
阿思達克財經新聞
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